Robin Ogier PhD

Octrooigemachtigde in opleiding

Over Robin Ogier

Vakgebieden:
Micro- en nanotechnologie, natuurkunde, optica


Opleiding:
Chalmers University of Technology (Göteborg, Zweden): Fotonica
INPG-Phelma (Grenoble, Frankrijk) / EPFL (Lausanne, Zwitserland) / Politecnico di Torino (Turijn, Italië): Micro- en nanotechnologie

Profiel:
Robin is in 2017 bij Arnold & Siedsma komen werken als octrooigemachtigde in opleiding. Daarvoor heeft hij zijn doctoraatsdiploma behaald aan de Chalmers University of Technology, na de succesvolle verdediging van zijn proefschrift ‘Plasmonics with a Twist: from Single Particles to Metasurfaces’. Dit proefschrift was gericht op de manipulatie van lichtpolarisatie door het maken van nieuwe ‘materialen’ voor verschillende toepassingen, waaronder telecommunicatie, energie en biosensing.

Tijdens zijn promotieonderzoek aan de Chalmers University of Technology heeft hij ruime ervaring opgedaan op het gebied van nanofabricageprocessen en karakterisatietechnieken, wat uitmondde in een aantal publicaties. Robin werkte in die periode in een zeer internationale omgeving waarin een brede wetenschappelijke kennis vereist is.

Anderen over Robin:
Recht door zee, flexibel, nauwgezet


CV

Werkverleden:
2017 - heden:   Octrooigemachtigde in opleiding bij Arnold & Siedsma
2016:                Onderzoekswetenschapper bij Chalmers University of Technology
2011 - 2016:     Promotie- & onderwijsassistent bij Chalmers University of Technology

Talen:
Frans, Engels, Zweeds


Publicaties:
Plasmonics with a Twist: from Single Particles to Metasurfaces, Ogier R., ISBN 978-91-7597-337-1, 2016

Ultrafast Spinning of Gold Nanoparticles in Water using Circularly Polarized Light, Lehmuskero A., Ogier R., Gschneidtner T., Johansson P., Käll M., Nanoletters, 2013, 13(7), pp 3129-3134

Macroscopic Layers of Chiral Plasmonic Nanoparticle Oligomers from Colloidal Lithography, Ogier R., Fang Y., Svedendahl M., Johansson P., Käll M., ACS Photonics, 2014, 1(10), pp 1074-1081

Dimer-on-Mirror SERS Substrates with Attogram Sensitivity Fabricated by Colloidal Lithography, Hakonen A., Svedendahl M., Ogier R., Yang Z.-J., Lodewijks K., Verre R., Shegai T., Andersson P. O., Käll M., Nanoscale, 2015, 7, pp 9405-9410

Plasmon Enhanced Internal Photoemission in Antenna-Spacer-Mirror Based Au/TiO2 Nanostructures, Fang Y., Jiao Y., Xiong K., Ogier R., Yang Z.-J., Gao S., Dahlin A. B., Käll M., Nano Letters, 2015, 15(6), pp 4059- 4065

Near-Complete Photon Spin Selectivity in a Metasurface of Anisotropic Plasmonic Antennas, Ogier R., Fang Y., Käll M., Svedendahl M., Physical Review X, 2015, 5(4), 041019

Continuous-Gradient Plasmonic Nanostructures Fabricated by Evaporation on a Partially Exposed Rotating Substrate, Ogier R., Shao L., Svedendahl M., Käll M., Advanced Materials, 2016, 28(23), pp 4658-4664


Telefoon: +32 2 737 6290